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Home Themen Lohnherstellung & Services

Chiptechnologie von morgen

21. April 2017
in Lohnherstellung & Services

Technische Universität Ilmenau - Fachgebiet Mikro- und nanoelektronische Systeme, aufgenommen am 30.03.2017 in Ilmenau ( Thueringen ) Foto: Michael Reichel /arifoto.de

Die Tech­nis­che Uni­ver­sität Ilme­nau hat ein europäis­ches Forschung­spro­jekt erfol­gre­ich abgeschlossen, in dem neue Tech­nolo­gien zur Entwick­lung elek­tro­n­is­ch­er Chips der Zukun­ft entwick­elt wur­den. In dem 18-Mil­lio­nen-Euro-Pro­jekt erforscht­en 16 Part­ner aus Wis­senschaft und Indus­trie unter der Führung des Ilme­nauer Wis­senschaftlers Pro­fes­sor Ivo W. Rangelow tech­nol­o­gis­che Ver­fahren zur Her­stel­lung von Tran­si­s­toren, deren kle­in­ste Bauteile nur zwei Nanome­ter klein sind – dabei entspricht ein Nanome­ter dem Mil­lion­sten Teil eines Mil­lime­ters. Die Ergeb­nisse des Pro­jek­ts ermöglichen die Massen­fer­ti­gung ein­er neuen Elek­tron­ik-Gen­er­a­tion: unter anderem extrem energies­parende und hochleis­tungs­fähige Com­put­er, Smart­phones und Tablets.

In den ver­gan­genen 50 Jahren erlebte die mod­erne Infor­ma­tion­s­ge­sellschaft eine ful­mi­nante tech­nol­o­gis­che Entwick­lung. Elek­tro­n­is­che Chips für Com­put­er, Handys und Tablets wur­den immer schneller und leis­tungs­fähiger. Die Anzahl der Schal­tele­mente auf einem einzel­nen Chip wurde von 2.300 im Jahr 1970 auf heute über 1,3 Bil­lio­nen erhöht. Vor 45 Jahren waren die kle­in­sten Teile dieser Bil­lio­nen Tran­si­s­toren noch so groß wie der Durchmess­er eines men­schlichen Haars, etwa 75.000 Nanome­ter. Heute liegen die Abmes­sun­gen bei nur noch 14 Nanometern.

Elek­tro­n­is­che Bauele­mente wer­den immer klein­er, aber das Ende der Minia­tur­isierung mit herkömm­lichen Tech­nolo­gien ist abse­hbar. Experten ver­muten, dass zwis­chen 2025 und 2035 die physikalis­che Kon­struk­tion­s­gren­ze heutiger Tran­si­s­toren erre­icht sein wird. Leis­tungs­fähige elek­tro­n­is­che Geräte bei gle­ichzeit­ig möglichst niedrigem Energie­ver­brauch erfordern nicht nur völ­lig neu konzip­ierte Tran­si­s­toren, son­dern auch immer kleinere Struk­turen für diese Hal­bleit­er-Bauele­mente. Zudem muss es möglich sein, die winzi­gen Struk­turen in Massen­fer­ti­gung herzustellen. Derzeit ist der Betrieb solch­er Tran­si­s­toren nur im Labor bei extrem tiefen Tem­per­a­turen von unter minus 200 Grad möglich.

Im soeben been­de­ten europäis­chen Ver­bund­pro­jekt „Sin­gle Nanome­ter Man­u­fac­tur­ing for beyond CMOS Devices (SNM)“ (www.snm-project.eu) opti­mierte ein großes europäis­ches Forscherteam unter der Leitung von Pro­fes­sor Ivo W. Rangelow, Leit­er des Fachge­bi­ets Mikro- und Nanoelek­tro­n­is­che Sys­teme der TU Ilme­nau, die bish­eri­gen Her­stel­lungsmeth­o­d­en für schnelle elek­tro­n­is­che Bauein­heit­en und ermöglichen die Pro­duk­tion elek­tro­n­is­ch­er Struk­turen von unter zwei Nanometern.

Die bahn­brechen­den wis­senschaftlichen Ergeb­nisse des SNM-Pro­jek­ts ermöglichen nun die Massen­fer­ti­gung ein­er neuen Gen­er­a­tion hochleis­tungs­fähiger und extrem energies­paren­der Elek­tron­ik. Ein wesentlich­er Fortschritt: Je klein­er die in einem Tran­sis­tor ver­ar­beit­eten Struk­turen, desto mehr Tran­si­s­toren find­en auf dem CPU, dem Haupt­prozes­sor, Platz, und umso leis­tungs­fähiger wird der Com­put­er. Die Erhöhung der Rechenka­paz­ität eben­so wie die der Spe­icherka­paz­ität sind für die längst begonnene Erweiterung des Inter­nets zum Inter­net der Dinge drin­gend notwendig. Nur so wird es in der dig­i­tal­en Welt möglich sein, den Com­put­er mit immer mehr „intel­li­gen­ten“ Gegen­stän­den aus der All­t­agswelt zu verbinden, damit Com­put­er, Kühlschrank & Co. miteinan­der kom­mu­nizieren können.

Dabei wird die höhere Rech­n­er­leis­tung sog­ar bei wesentlich gerin­gerem Energie­ver­brauch erzielt. Die Akkuleis­tung mobil­er elek­tro­n­is­ch­er Geräte wie Lap­tops und Smart­phones ist heute eine ihrer größten Schwach­stellen. Um den Energie­ver­brauch von hochin­te­gri­erten elek­tro­n­is­chen Schal­tun­gen und damit von elek­tro­n­is­chen Geräten drastisch zu reduzieren, kom­binierten Prof. Rangelow und sein Forscherteam bish­erige Her­stel­lungsver­fahren auf neue Art und Weise oder sie entwick­el­ten gar vol­lkom­men neue, inno­v­a­tive Meth­o­d­en. Dadurch kön­nte der Energie­ver­brauch mobil­er Geräte mit­tel­fristig um das 25-fache gesenkt wer­den. Prof. Rangelow mah­nt aber zur Vor­sicht, die Erwartun­gen zu hoch zu schrauben: „Der Energie­ver­brauch eines Handys hängt von so vie­len Fak­toren ab, dass eine Einsparung in der Größenord­nung zwar the­o­retisch möglich ist, aber nicht wis­senschaftlich ser­iös vorherge­sagt wer­den kann. Ganz sich­er aber haben wir mit unseren neuen Ver­fahren den Weg dafür geeb­net, dass ein Nutzer sein Handy in Zukun­ft wesentlich sel­tener wieder aufladen muss. Ich kön­nte mir vorstellen: statt heute jeden Tag nur noch etwa alle fünf Tage.“

Die Ergeb­nisse des SNM-Pro­jek­ts wur­den durch die inter­diszi­plinäre Zusam­me­nar­beit von 16 hochkaräti­gen Uni­ver­sitäten, Forschung­sein­rich­tun­gen und Indus­trie­un­ternehmen aus acht europäis­chen Län­dern ermöglicht. Bei ihren Forschungsar­beit­en nutzten die 50 Wis­senschaftler Quan­ten­ef­fek­te, um ultra­k­leine soge­nan­nte Einzelelek­tro­nen-Bauele­mente kon­stru­ieren zu kön­nen. Im Gegen­satz zur klas­sis­chen Physik erlaubt die Quan­ten­mechanik präzise Berech­nun­gen der physikalis­chen Eigen­schaften von Materie bis hin zum Größen­bere­ich von Ele­men­tarteilchen. Die wis­senschaftliche Analyse von Struk­turen in der Größenord­nung unter zehn Nanome­tern ist äußert aufwändig und wurde vom nieder­ländis­chen Insti­tut für Metrolo­gie VSL, einem inter­na­tion­al führen­den Insti­tut für Messtech­nik, koor­diniert. Die Mes­sung der Einzelelek­tro­nen-Bauele­mente gelang am Impe­r­i­al Col­lege Lon­don, ein­er britis­chen Uni­ver­sität, deren eigen­er Anspruch Forschung der Weltk­lasse unter anderem in Natur- und Inge­nieur­wis­senschaften ist. Dabei ergab die Analyse einen Durchmess­er der kle­in­sten funk­tionellen Struk­turen von nur 1,8 Nanome­tern. Zu Beginn des SNM-Pro­jek­tes, also erst vor vier Jahren, wur­den mit herkömm­lichen Her­stel­lungsmeth­o­d­en noch 35 Nanome­ter erreicht.

Die Her­stel­lung elek­tro­n­is­ch­er Bauele­mente mith­il­fe von Lithographie‑, also von Schreib­ver­fahren, erfol­gt in zwei Schrit­ten. Zunächst wer­den die Struk­turen in eine Lackschicht „geschrieben“. Damit wird, wie bei der Neg­a­tivher­stel­lung in der analo­gen Fotografie, die Maske für den zweit­en Schritt erstellt. Anschließend wer­den die Struk­turen von der Lackschicht­maske in das Siliz­ium geätzt – aus dem „Neg­a­tiv“ wird das eigentliche „Pos­i­tiv-Foto“, das elek­tro­n­is­che Bauteil. Bis ein voll­ständi­ger, ultra­k­lein­er Schaltkreis hergestellt wer­den kann, müssen die einzel­nen, äußerst kom­plex­en Schritte dutzend‑, ja hun­dert­fach aus­ge­führt wer­den. Mith­il­fe soge­nan­nter langsamer Elek­tro­nen mod­el­lierten die Wis­senschaftler an der TU Ilme­nau mit ein­er oder mehreren Nanome­ter großen Spitzen Struk­turen im Bere­ich unter zehn Nanome­tern. Dieses Schreib­ver­fahren, Raster-Son­den-Tech­nik genan­nt, ermöglicht nicht nur das Schreiben, son­dern auch das Lesen und die ultra­ge­naue Anord­nung von Nanos­truk­turen. Für Prof. Rangelow ist die Entwick­lung elek­tro­n­is­ch­er Struk­turen von unter zwei Nanome­tern eine her­aus­ra­gende wis­senschaftliche Leis­tung: „Weltweit wer­den inten­siv Tech­nolo­gien gesucht und erforscht, die Com­put­er der Zukun­ft, soge­nan­nte Quan­ten­com­put­er, ermöglichen. Im Unter­schied zu herkömm­lichen Dig­i­tal­rech­n­ern basieren diese Com­put­er auss­chließlich auf Geset­zen der Quan­ten­mechanik. Quan­ten­com­put­er wer­den ungle­ich leis­tungs­fähiger sein, denn mit ihnen kön­nten wir bes­timmte Prob­leme der Infor­matik, zum Beispiel die Suche in extrem großen Daten­banken, ver­mei­den. Die von uns entwick­elte Raster-Son­den-Tech­nik hat mit der Her­stel­lung von zwei Nanome­ter kleinen Struk­turen das Tor in diese neue Quan­ten­com­put­er­welt ein gutes Stück geöffnet.“

Von der Gesamt­förderung für das EU-Ver­bund­pro­jekt „Sin­gle Nanome­ter Man­u­fac­tur­ing for beyond CMOS Devices“ von fast 18 Mil­lio­nen Euro für vier Jahre stam­men gut 12 Mil­lio­nen aus dem 7. Rah­men­pro­gramm der Europäis­chen Union, die restlichen sechs Mil­lio­nen wur­den von allen beteiligten Part­nern aufgebracht.

Wesentliche Beiträge zu den neuen Tech­nolo­gien liefer­ten inter­na­tionale Part­ner der TU Ilmenau:

  • Die Her­stel­lung ultra­k­lein­er und sog­ar drei­di­men­sion­aler Bauele­mente wurde mit einem ther­mis­chen Lith­o­gra­phiev­er­fahren erzielt, das vom weltweit mit führen­den Unternehmen für Hard- und Soft­ware IBM erfun­den und im SNM-Pro­jekt erhe­blich opti­miert wurde. IBM führte die Forschungs- und Entwick­lungsar­beit­en in enger Zusam­me­nar­beit mit ein­er jun­gen schweiz­erischen Start-up-Fir­ma, der SwissLitho AG, durch. Als Ergeb­nis der Arbeit­en brachte SwissLitho das erste kom­merzielle Gerät zur Her­stel­lung ultra­k­lein­er elek­tro­n­is­ch­er Bauteile auf den Markt: den NanoFrazor.
  • Die größte öffentliche Forschung­sein­rich­tung Spaniens, der Con­se­jo Supe­ri­or de Inves­ti­ga­ciones Cien­tí­fi­cas CSIC, demon­stri­erte neue Meth­o­d­en zur Fer­ti­gung von Bauele­menten aus Nan­odräht­en, deren Dicke unter zehn Nanome­tern liegt.
  • Das britis­che kleine Tech­nolo­gie­un­ternehmen für Forschung und Entwick­lung sowie Pro­to­type­n­twick­lung Oxford Sci­en­tif­ic Con­sul­tants wandte erfol­gre­ich eine neue Schreibtech­nik an, die Heli­u­mio­nen anstatt Elek­tro­nen benutzt.
  • Lackschicht­en, die sowohl für die Lith­o­gra­phie als auch für das Über­tra­gen der geschriebe­nen Struk­turen in das Träger­ma­te­r­i­al Siliz­ium ver­wen­det wer­den, wur­den an der Uni­ver­sität Bayreuth so weit verbessert, dass Struk­turen klein­er als zehn Nanome­ter in Siliz­ium hergestellt wer­den können.
  • Die Über­tra­gung in das Siliz­ium erfol­gt mith­il­fe von Ätzver­fahren, die an die Struk­turher­stel­lung in kle­in­ster Größenord­nung und für die Nutzung der neuen Lackschicht­en angepasst wur­den. An den Arbeit­en beteiligt waren neben der TU Ilme­nau das Interuni­ver­si­ty Micro­elec­tron­ics Cen­tre IMEC, eines der größten europäis­chen Forschungszen­tren für Nano- und Mikroelek­tron­ik, die Open Uni­ver­si­ty, die größte staatliche Uni­ver­sität Großbri­tan­niens, und Oxford Instru­ments, ein britis­ches Unternehmen, das wis­senschaftliche Geräte für Indus­trie und Forschung entwickelt.
  • Die für die Massen­fer­ti­gung der elek­tro­n­is­chen Struk­turen notwendi­ge Geschwindigkeit erzielte der öster­re­ichis­che Her­steller von Prozes­san­la­gen EV Group (EVG) mith­il­fe der soge­nan­nten Nanoprägelith­o­gra­phie, Nanoim­print. Durch die Entwick­lung von automa­tis­chen Sys­te­men für die Nanoim­print-Lith­o­gra­phie kön­nen bis zu 30 Sub­strate pro Stunde hergestellt wer­den. Dies ist eine erhe­bliche Steigerung gegenüber manuellen Anla­gen und ermöglicht Industrieanwendungen.
  • Die nieder­ländis­che Tech­nis­che Uni­ver­sität Delft entwick­elte ein hochau­flösendes lith­o­graphis­ches Ver­fahren, mit dem die Geschwindigkeit mit Hil­fe von 25 Elek­tro­nen­strahlen statt wie bish­er nur mit einem deut­lich gesteigert wird.
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